本公司是世界500強企業日本旭化成株式會社投資的獨資企業，生產印制線路板用感光性干膜抗蝕劑（簡稱干膜），于2003年3月投產。
本公司引進日本旭化成株式會社長期銳意研究開發的干膜配方和生產技術，投入世界最尖端的超薄涂膜設備和精密分切設備，生產印制線路板用高性能干膜，供應國內和國際市場。干膜是IT高科技產品用印制線路板的關鍵物料，屬高科技產品，技術含量大，附加值高，在中國有廣闊的發展前景。
旭化成牌干膜是我們公司生產的用于生產印刷線路板的在感光性材料領域內結合了現代科技的一種干膜感光抗蝕劑。
旭化成牌干膜的特性
(1) 有更廣范圍的曝光和顯影條件。
(2) 高解像力，顯影過后底片的產能很高。
(3) 聚合抗蝕劑很堅韌，對蝕刻劑有良好的抗蝕能力：如，三氯化鐵、二氯化銅。
(4) 聚合抗蝕劑能很好地粘著于銅表面。
ASAHI KASEI DFR SUNFORT is a dry film photo resist developed by our
company with a combination of heretofore-developed technologies in
photosensitive materials and palstics, for use in the manufacture of printed circuit boards.
Features of SUNFORT DFR
(1) Wider latitude of exposing and developing conditions.
(2) High resolution and excellent reproducibility of photo mask after developing.
(3) Polymerized resisit is tough and has good etching resistance to etchants such as:
Ferric chloride(FeCl3)
(4) Polymerized resist remains firmly bonded to copper surface, and has an excellent chemical resistance to acid electroplating bath such as:
Copper sulface
Solder fluoborate(tin/lead, tin)
(5) During stripping, polymerized resist breaks up into small particles and is not soluble in a stripping solution.
(6) Excellent tenting ability.
聯系方式
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